EV GROUP透過次世代步進重複奈米壓印微影系統開啟靈敏且高效的生產微縮化 (台北新聞網-大台灣新聞網)

EVG®770 NT為擴增實境波導管、晶圓級光學技術與先進生物醫學晶片
促成複雜的微型與奈米結構的大面積母模加工

台北，2021年6月9日 — 微機電系統（MEMS）、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之領導廠商EV Group（EVG），今天宣布推出次世代的步進重複奈米壓印微影（NIL）系統EVG®770 NT。EVG770 NT可以為擴增實境（AR）波導管、晶圓級光學技術（WLO）及先進實驗室晶片元件量產使用的大面積母模加工，促成微型與奈米圖案的精準複製。在此之前，步進重複NIL的進一步開發與生產微縮化的需求，往往受限於較大面積上精準母模的可用性。借助EVG在NIL與步進重複母模累積數十年的經驗，EVG770 NT的設計旨在成為一套讓效能、生產力與製程控制性極大化的完全生產導向系統，並提供領先業界的疊層精準度與解析度，尺寸最高可以放大至300mm晶圓及第二代面板尺寸。因此，今後客戶可以實現量產、具成本效益與高保真度的NIL圖案成形。

步進重複NIL的優勢
WLO為推動NIL普及的主要市場之一，其已經為消費性行動電子產品帶來全新的應用，從改良智慧型手機的數位相機自動對焦，以及提升智慧型手機安全性的人臉辨識，到AR與虛擬實境（VR）頭戴裝置使用的3D模型與影像增強。步進重複NIL藉由電子束或其它技術完成單一晶片母模，並在基板上進行多次複製以打造全面積的主模板與母模，以符合成本效益的生產WLO與微流控元件使用的微結構。如此產出的步進重複母模，可以用來生產供接下來晶圓級與面板級製造使用的工作模具。

能在面積越來越大的基板上複製較大母模的能力，可以讓我們同時生產更多的產品，也可以在不用拼接的情況下，生產較大型個別產品。與鑽石鑽孔、雷射直寫與電子束書寫等傳統母模加工製程相比，這種方法帶來顯著的良率與成本優勢。由於傳統母模加工製程的低產出量與高成本，導致更難以擴充到更大基板。結合步進重複製程可以促成效能最佳的晶片使用，也能更有效地將這些高品質圖案導入生產線。

EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士表示：「EV Group對於開發與完善我們的步進重複母模加工技術的投資已經超過十年，目的是將NIL製造的優勢帶到更廣泛的市場與應用。這項努力的成果為我們帶來了EVG770 NT，它補足並且成功橋接自由度微光學或高保真度奈米圖案成形，具成本效益的量產需求。借助這個突破性的步進重複解決方案，我們的客戶現在能夠打造自己的主模板，並將整個NIL製造流程導入企業內部，進而提供客戶更高的彈性與更短的生產製造周轉時間。對於新產品有意探索使用NIL或有少量生產需求的客戶，EVG在我們的NILPhotonics®技術中心提供步進重複母模加工服務，此技術中心是對客戶與合作夥伴開放使用的創新育成中心，可協助縮短創新的光電元件與應用之產品上市時程。」

效能與微縮性的突破
EVG770 NT包含多項功能，有助於製程開發與生產：
• 最大可以在300mm晶圓與第二代（370x470mm）面板等基板上，進行最大達80mm x 80mm的單一鏡頭/ 晶片模板的無拼接複製
• 250nm以內的對準精度與50nm以內的解析度
• 促成工作模具量產流程，避免昂貴的原始模具磨損
• 具更高能量的全新曝光光源設計，可大幅降低曝光時間
• 檢測用顯微鏡與即時製程的相機訊號饋送，可隨時隨地驗證與監控製程結果
• 非接觸的空氣承軸可以讓塵粒污染降至最低
• 自動化基板裝載與模具更換單元，具備五個模具的儲存緩衝器
• 壓印力量與脫膜力量的臨場控制與特性分析
• 將軟體升級至EVG最新的Computer Integrated Manufacturing（CIM）框架平台，其廣泛用於EVG量產製程設備上

產品供應時程
EVG770 NT現已出貨給特定客戶，而EVG目前也開放接受全新系統的訂單。EVG在其總部內的NILPhotonics技術中心提供工具展示與新系統的步進重複母模服務。更多有關EVG770 NT步進重複NIL系統資訊，請瀏覽https://www.evgroup.com/products/nanoimprint-lithography/uv-nil-smartnil/evg-770/。

EVG將參與SPIE Digital Optical Technologies
EVG將於6月21日至25日在線上舉行的SPIE Digital Optical Technologies論壇中，發表關於NIL在製造高折射率波導管中所帶來之益處的特邀論文。

關於EV Group（EVG）
EVG是全球半導體、微機電、化合物半導體、電源元件和奈米科技應用的晶圓製程解決方案領導廠商，主要產品包括晶圓接合、晶圓薄化、微影/ 奈米壓印微影技術（NIL）和檢測設備，以及光阻塗佈機、顯影機、晶圓清洗和檢測設備。EVG成立於1980年，藉由一個完備的全球網絡資源為全球的客戶和合作夥伴提供服務。更多相關資訊請參考公司網站：www.EVGroup.com。

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