無與倫比的精準度與生產力 IQ Aligner NT透過最佳化的工具軟體結合尖端光學和機械工程技術,提供兩倍的晶圓產量(首次微影每小時超過200片晶圓,正面對準曝光每小時超過160片晶圓),以及兩倍的對準精準度(250奈米3-sigma)。透過更嚴格的對準規格,使客戶在生產高階與高頻寬封裝產品時能提高成品良率。
關於EV Group (EVG) EVG是全球半導體、微機電、化合物半導體、電源元件和奈米科技應用的晶圓製程解決方案領導廠商,主要產品包括晶圓接合、晶圓薄化、微影/奈米壓印影術(NIL)和檢測設備,以及光阻塗佈機、顯影機、晶圓清洗和檢測設備。EVG成立於1980年,藉由一個完備的全球網絡資源為全球的客戶和合作夥伴提供服務。更多相關資訊請參考公司網站:www.EVGroup.com