西門子推出 Calibre DesignEnhancer，實現「Calibre 設計即正確」IC 佈局最佳化 (台北新聞網-大台灣新聞網)

西門子數位化工業軟體日前推出創新解決方案 Calibre® DesignEnhancer，能幫助積體電路（IC）、自動佈局佈線（P&R）和全客製化設計團隊在 IC 設計和驗證過程中實現「Calibre 設計即正確」設計佈局修改，從而顯著提高生產力、提升設計品質並加快上市速度。



Calibre DesignEnhancer 是西門子 Calibre® nmPlatform IC 實體驗證平台「左移」系列工具之最新產品，可幫助客製化與數位設計團隊快速準確地最佳化設計，以減少或消除壓降（IR drop）與電子遷移（EM）等問題，進而提升實體驗證準備就緒能力。Calibre DesignEnhancer 可在 IC 設計和實作階段期間，支援自動最佳化佈局，幫助客戶更快地達成「DRC-clean」，以實現 tapeout，同時提高設計可製造性和電路可靠性。



STMicroelectronics 智慧電源技術研發設計支援總監 Pier Luigi Rolandi 表示：「Calibre DesignEnhancer 解決方案能夠幫助我們持續加強 IC 設計，在處理和解決電路電阻值過大和 IR 壓降等問題方面表現出色。」



在對 IC 設計進行實體驗證之前，工程師通常須依賴第三方 P&R 工具來整合設計，以實現可製造性（DFM）最佳化，這通常需要執行多次驗證才能最終得到「DRC - clean」的結果。有了西門子全新的 Calibre DesignEnhancer 工具，設計團隊可以顯著縮短驗證周期時間並減少 EM/IR 問題，同時為實體驗證做好佈局準備。



Calibre DesignEnhancer 工具目前提供三種使用模式：



貫孔修改可自動分析佈局，並最多插入超過 100 萬個 Calibre-Clean的「設計即正確」貫孔，以減少貫孔電阻對 EM/IR 和可靠性的影響。基於對佈局和 Signoff 設計規則的透徹了解，貫孔插入可以幫助客戶實現其功耗目標，而不會影響效能或面積指標。

電源/接地增強功能可自動分析佈局，並在開放軌道中插入 Calibre nmDRC-Clean 的貫孔和互連，進而建立並行運作，以降低電源/接地結構上的電阻，並減少與電源線相關的 IR 和 EM 問題。使用 Calibre DesignEnhancer 工具可為客戶減少多達 90% 的 IR 壓降問題。

填充單元插入可最佳化實體驗證就緒所需的去耦電容（DCAP）和填充單元插入。此種插入取代了傳統的 P&R 填充單元插入流程，有助於提供更高品質的結果，並使執行時間加快 10 倍之多。



西門子數位化工業軟體 Calibre 設計解決方案部門的實體驗證產品管理資深總監 Michael White 表示：「當今 IC 設計環境充滿了挑戰，採用先進製程的工程團隊在工作中往往受到給定的面積和專案時間表的約束，因此很難最佳化佈局以實現可製造性和高效能。藉著使用 Calibre DesignEnhancer 軟體，設計師可以在設計週期的早期發揮 Calibre 的多邊形處理速度和準確度優勢，這有助於避免設計週期後期出現意外情況。」



Calibre DesignEnhancer 解決方案採用了經過驗證的技術、引擎和 Calibre 的合格規則集，可以幫助客戶獲得設計即正確、Calibre DRC-Clean並準備好 Signoff 驗證的結果。此方案可以將 OASIS、GDS 和 LEF/DEF 檔案作為輸入文件讀取，並以 OASIS、GDS 或增量 DEF 檔案的任何組合輸出佈局修改，幫助設計團隊輕鬆地將 Calibre DesignEnhancer 軟體變更返標註（back-annotate）至設計資料庫中，以使用常用的功耗時序分析工具執行功耗和時序分析，從而在設計生命週期的前期提供進一步分析的方法。



Calibre DesignEnhancer 工具使用業界的介面標準，與所有主要設計和實作環境整合，提供了一個易於使用的工作環境。Calibre DesignEnhancer 套件現在可供所有支援 130 nm 到 2 nm 設計的領先晶圓代工廠使用，具體情況取決於使用模型和技術。



有關 Calibre DesignEnhancer 工具的更多資訊，請造訪：https://eda.sw.siemens.com/en-US/ic/calibre-design/design-for-manufacturing/desig...









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